§4.3　X線回折
　§4.3.1　X線とX線回折
　§4.3.2　定方位法
　　（a）主な層状珪酸塩の底面反射とその強度
　　（b）混合層鉱物の底面反射
　§4.3.3　薬品および加熱処理による底面反射の変化
　　（a）Kイオン飽和
　　　★1N（規定度、Normality）のCH3COOK（酢酸カリウム、Potassium Acetate）溶液（pH 7）またはKCl（塩化カリウム、Potassium Chloride）による処理を行なう。
　　（b）エチレングリコール（Ethylene Glycol、C2H6O2）およびグリセロール（グリセリン、Glycerol、Glycerin、Glycerine、C3H5(OH)3）処理
　　　★5％水溶液として処理を行なう。
　　（c）加熱処理　　
　　　★100℃から、100〜150度間隔で、1000℃まで加熱。定方位試料を用いる場合は、石英ガラス（Fused Quartz：純粋なSiO2）製のスライドグラス（スライドガラス、Microscope Slide）を用いる。
　　（d）その他の処理法
　§4.3.4　不定方位法
　　（a）060反射
　　（b）hkl反射
　§4.3.5　粘土鉱物の定量

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